Khí CF4 trong công nghệ Plasma

Ứng dụng khí CF4 trong công nghệ Plasma

Khí CF4 trong công nghệ Plasma được ứng dụng như thế nào? Khí công nghiệp, nhất là các loại  khí đặc biệt ngày càng được sử dụng rộng rãi trong nhiều nghành công nghiệp và các lĩnh vực khác của đời sống. Khí CF4 cũng có rất nhiều ứng dụng trong các lĩnh vực công nghệ hiện đại như kim khí in khắc plasma,  trong ngành công nghiệp vi điện tử, lĩnh vực làm sạch bề mặt các thiết bị điện tử hay mạch in, sản xuất pin năng lượng mặt trời, công nghệ laser, khí cách nhiệt, điện lạnh, kiểm tra rò rỉ, điều khiển tên lửa vũ trụ và chất tẩy rửa trong sản xuất mạch in trong công nghiệp. Hôm nay chúng ta cùng tìm hiểu ứng dụng khí CF4 và  công nghệ cắt Plasma.

Khí đặc biệt CF4 (carbon tetrafluoride)

Plasma là gì?

Chúng ta được biết vật chất tồn tại dưới ba trạng thái cơ bản là thể rắn, thể lỏng và thể khí. Thế nhưng còn một trạng thái tồn tại của vật chất mà chúng ta ít biết tới. Trạng thái thứ tư của vật chất được gọi là Plasma. Khí CF4 trong công nghệ Plasma cũng được ứng dụng dựa trên nguyên lý này.

Thể Plasma được hình thành khi các chất bị ion hóa mạnh. Đại bộ phận phân tử hay nguyên tử chỉ còn lại hạt nhân. Các electron li khai chuyển động tương đối tự do giữa các hạt. Khi cung cấp năng lượng cho hạt electrons, làm quỹ đạo quay của nó mở rộng. Đây gọi là quá trình “kích thích” electrons, các hạt electrons giải phóng ra ngoài (quá trình điện ly) trở thành “các hạt electrons tự do” còn các hạt nguyên tử còn lại được gọi là “ions”. Các hạt Electrons bay qua lại, và ions nhảy múa xung quanh làm cho sự liên kết giữa hạt nhân electrons và electrons không còn ổn định. Hiện tượng hỗn độn này chính là “plasma”.

Tuy nhiên trong bốn trạng thái vật chất, plasma được xem như trạng thái đầu tiên trong vũ trụ. Vì mặc dù Plasma không phổ biến trên Trái Đất. Nhưng trên 99% vật chất thấy được trong vũ trụ tồn tại dưới dạng plasma,

Ứng Dụng Của Plasma?

Những lĩnh vực mà công nghệ plasma được sử dụng nhiều nhất hiện nay là tráng film, etching và ashing trong sản xuất chất bán dẫn. Và đây là công nghệ không thể thiếu được trong sản xuất linh kiện điện tử, đĩa quang từ, DVD trong ngành IT.

Plasma còn được ứng dụng để làm Dao cắt Plasma trong phẫu thuật y tế. Cắt bằng dao Plasma giúp vết cắt ít chảy máu và nhanh phục hồi. Chiếu tia plasma lên vết thương hở và vết mổ để diệt vi sinh vật. Ngoài ra nó còn diệt bào tử nấm, virus giúp da tăng sinh và nhanh liền sẹo.

Ứng dụng Ion Plasma trong hệ thống lọc không khí được trang bị trong điều hòa. Nó vận hành bằng cách tạo ra các ion mang điện tích âm. Có tác dụng hút các phần tử gây hại, phá hủy các chất gây hại mang điện tích dương.

Ứng dụng Plasma trong y học

• Diệt khuẩn và chữa trị các vết thương mãn tính rất hiệu quả
• Làm lành vết thương nhanh chóng
• Khắc phục các sắc tố da, tái sinh mô
• Giảm đau nhanh chóng, không gây khó chịu
• Không gây tác dụng phụ hay kháng thuốc
• Kháng vi rút, kháng nấm, chống viêm hiệu quả.

Công dụng Plasma trong làm đẹp

• Điều trị đốm da và mụn cơm có cuống.
• Các loại mụn sữa, mụn thịt quanh mắt.
• Điều trị viêm lỗ chân lông, lỗ chân lông to.
• Xóa bỏ sẹo thâm, sẹo lồi và các nếp nhăn.
• Xóa nốt ruồi.

Có thể nói rằng thế kỷ 21 là thế kỷ mà “Plasma” có mặt khắp mọi nơi trong đời sống  của chúng ta.

Tham khảo thêm ứng dụng tuyệt vời của Plasma

Ứng dụng Cắt plasma!

Cắt Plasma là quy trình sử dụng miệng đầu phun thích hợp để làm thắt lại luồng khí ion hóa có nhiệt độ rất cao. Sao cho có thể sử dụng để làm nóng chảy và cắt đứt kim loại dẫn điện.

Khí dẫn điện (plasma) được sử dụng để chuyển năng lượng âm – cung cấp bởi một nguồn điện từ mỏ plasma đến vật liệu cắt. Mỏ plasma đóng vai trò như là công cụ lắp các phụ tùng tiêu hao và có vai trò cung cấp chất làm mát (khí hoặc nước) cho các phụ tùng này. Đầu phun và điện cực duy trì tia plasma.

Một tín hiệu khởi động được gửi tới nguồn công suất DC. Khi đó, đồng thời xuất hiện   điện áp mạch hở và khí phun ra mỏ.

Sau khi có luồng khí ổn định, mạch tần số cao được kích hoạt.

Mạch tần số cao phóng hồ quang giữa điện cực và đầu phun bên trong mỏ và hồ quang làm cho khí thổi qua đó bị ion hóa

Khí dẫn điện tạo nên dòng điện giữa điện cực và đầu phun và kết quả là hình thành hồ quang mồi(pilot arc).

Khí đặc biệt – Khí CF4 trong công nghệ Plasma

Các luồng khí thường được sử dụng để ion hóa thành trạng thái Plasma là: không khí, Argon, Helium, oxy, nito, và khí CF4. Với mỗi loại khí khác nhau sẽ tạo nên những dòng Plasma khác nhau. Mỗi dòng Plasma thích hợp với từng ứng dụng cụ thể.

Khí CF4 trong công nghệ Plasma kết hợp với oxy như một etchant plasma cho silicon, silicon dioxide và silicon nitride.

Công ty Việt Xuân Gas chuyên cung cấp các loại khí công nghiệp, khí đặc biệt dùng cho máy nguồn sử dụng plasma. 

Để biết thêm thông tin chi tiết về Khí CF4 trong công nghệ Plasma.

Vui lòng liên hệ hotline

Tư vấn kỹ thuật và bán hàng: Điện thoại/zalo 0902 336 426 – email  sales@kattashop.com

Hân hạnh được phục vụ.